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高分辨率显微镜载玻片靶

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所属分类:光学元件
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高分辨率显微镜载玻片靶采用高精度电子束光刻技术设计。这些图案蚀刻在光谱透射范围广泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上,在该衬底上施加高光密度的铬层。通过去除铬层,形成尺寸低至 100nm 的图案。高分辨率显微镜载玻片靶提供优异的尺寸稳定性,并安装在金属显微镜载玻片支架中。每个靶上的负片图案允许结构透明,而背景被铬层阻挡。

高分辨率显微镜载玻片靶产品概述:

高分辨率显微镜载玻片靶

Ø小图案尺寸 - 100nm 和 3300 lp/mm

Ø采用高精度电子束光刻技术制作

Ø负片图案设计

高分辨率显微镜载玻片靶采用高精度电子束光刻技术设计。这些图案蚀刻在光谱透射范围广泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上,在该衬底上施加高光密度的铬层。通过去除铬层,形成尺寸低至 100nm 的图案。高分辨率显微镜载玻片靶提供优异的尺寸稳定性,并安装在金属显微镜载玻片支架中。每个靶上的负片图案允许结构透明,而背景被铬层阻挡。

高分辨率显微镜美国空军USAF测试目标板

高分辨率显微镜美国空军USAF测试目标板可轻松确定透射光中物镜的分辨率极限,并由 59 个图案组成,水平和垂直排列的线图案为 7。5 至 3300 lp/mm。该测试目标板还具有 5 个直径在 4。0-0。25μm 之间的针孔,可用于微成像光学元件的详细表征。

高分辨率显微镜星测试目标板

高分辨率显微镜星测试目标板由 5 颗西门子星组成,其特点是星中心的锥形部分精确制造的最小宽度为 150nm。该测试目标板非常适合于确定具有非常高数值光圈的显微镜物镜的分辨率。

高分辨率显微镜检查板

高分辨率显微镜检查板的特点是 50 x 50 平方微米的正方形总尺寸为 9.0 x 9.0 平方毫米。检查板非常适合于测试图像歪斜和曲率,以及确定由于直线和锐边导致的图像质量。

通用规格

Pattern Tolerance:

100nm/cm = 10-5

光密度 OD:

OD>8 @ 400nm, 6 @ 550nm, 4。5 @ 750nm, 3。6 @ 1000nm

光谱范围:

200 - 2000nm

基底:

Fused Silica w/Chrome deposit

尺寸 (mm):

10 x 10 x 1

构造 :

Stainless Steel, 75 x 25 x 1.5mm, microscope slide format

 

订购信息:

标题

产品号

High Res Microscopy Star Target

#37-538

High Res Microscopy USAF Target

#37-539

High Res Microscopy Checker board

#37-540


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